高真空退火爐

產(chǎn)品介紹

     目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現(xiàn)溫度的高精度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

       它提高了加熱試驗能力.同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。節(jié)省時間并提高實驗速度。

      同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)an全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)溫度控制操作！

設備優(yōu)勢

1、   高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。

2  、溫度高精度控制

過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

  3、 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

反射爐溫度控制裝置

高速升溫時，配套的快速反應的高真空退火爐控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設計，響應速度快。

可選配

干泵：抽速≥120L/min，極限真空度≤4pa，噪音小于52db；

全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10-7Pa到1atm

為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度。

    根據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)。

    自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型

    可設定32個程序、256個步驟的程序。

    30A、60A、120A內置了SCR電路，所以范圍很廣。

設備配置

更多應用

1.電子材料

半導體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成·激活離子注入后硅化物的形成

2.陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐。

陶瓷張力、撓曲試驗退火爐。

3.鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000℃以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4.復合材料

耐熱性評價爐

無機復合材料熱循環(huán)試驗爐

5.其它

高溫拉伸壓縮試驗爐。

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導陶瓷退火爐