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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:高溫 退火爐加熱爐

  • 產(chǎn)品型號:Huace800G\1200G\1450G
  • 產(chǎn)品廠商:華測
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 折扣價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實(shí)現(xiàn)溫度的高精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,高真空退火爐在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱。
詳情介紹:

儀器介紹:

華測儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布??蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染??稍诟哒婵?, 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰ΑM娮锠t和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系,可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)溫度控制操作!

 

設(shè)備原理:

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

2. 紅外線燈

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。


                                  


設(shè)備特點(diǎn)

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

2. 溫度高精度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用,可以控制樣品的溫度。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

3. 清潔加熱

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境,低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。


反射爐溫度控制裝置:

高速升溫時(shí),配套的快速反應(yīng)的控制裝置,本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設(shè)計(jì),響應(yīng)速度快。 


設(shè)備結(jié)構(gòu):

序號

項(xiàng)目

數(shù)量

品牌

備注

1

爐體

1

華測

溫度1200℃

2

加熱源

1

GE

 

3

溫度控制器

1

華測

 

4

電熱偶

1

omega

 

5

溫控表

1

歐姆龍

 

6

穩(wěn)壓電源

1

華測

可定制

7

制冷水機(jī)

1

同飛

制冷功率8KW

8

分子泵

1

萊寶

CF法蘭,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa

 


可選配置:

1干栗:抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

2全量程真空規(guī):刀口法蘭接口,真空測量范圍5X10-7Pa1atm;

3為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制,同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度;

4根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù),您也可以簡單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù);

5自適應(yīng)熱電偶包括JISK、JT、EN、R、S、B、以及LU、W;

6可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序;

7)30A60A、120A內(nèi)置了 SCR電路,所以范圍很廣。


更多應(yīng)用:

電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)

熱源薄膜形成

離子注入后

硅化物的形成

陶瓷與無機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理(1000°c以下)

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

復(fù)合材料

耐熱性評價(jià)爐

無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

其他

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐


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